Los avances en la investigación del jóven grafeno se vienen prometiendo y viendo desde hace años, cuando en el 2004, al Dr. Kostya Novoselov se le ocurrió tomar un material adhesivo y utilizarlo para remover las capas de grafito de carbono develándose ante él, su equipo y el mundo entero, el lugar al cual se dirigiría la próxima generación de transistores. En búsqueda de los beneficios, métodos y procesos que harían al grafeno evolucionar hasta convertirse en la materia prima del futuro tecnológico, el costo y la dificultad de su creación se volvieron contrapesos, pero ahora los científicos hallaron un método más barato, fácil y universal de conseguir grafeno utilizando un limpiador ultrasónico.
El problema
Uno de los problemas mostrados en el pasado reciente era que el grafeno tenía propiedades que hacían que su utilización en la construcción de microprocesadores comprometieran su estructura, pues la presión y las temperaturas a las que se trabaja podrían arruinar un materia altamente costoso. Solucionado parcialmente lo primero, el problema se trasladó a lo segundo. El grafeno es caro y difícil de conseguir, tanto logística como químicamente. Pero como hay mucho equipos científicos trabajando en pos de su facilitación, hace algunas horas el Instituto de Química Física de la Academia Polaca de Ciencias (IPC PAS) en Varsovia y del Instituto de Investigación Interdisciplinaria (IRI), en Lille (Francia) dieron con un método más fácil, barato y accesible para crear estas láminas de grafeno de 1 átomo de espesor, cien veces más fuertes que el acero, flexibles y con una conductividad térmica y eléctrica que Mario ya supo explicarles.
El método
Se trata de un método que utiliza algo que todos los laboratorios medianamente completos del mundo poseen, un limpiador ultrasónico. Lo que hicieron los científicos para separar las capas de grafito (algo muy costoso a niveles prácticos), fue oxidar el grafito para que las uniones entre cada estrato se debilitasen, lo que facilita la separación a niveles impresionantes. Una vez obtenido el polvo de grafito, entra en acción el limpiador ultrasónico, cuyos rayos de ultrasonido separan los estratos y entregan muestras de óxido de grafeno de 300 nanómetros de espesor. A nivel practicidad, el experimento muestra dificultad únicamente ante la posibilidad de hallar oxígeno en los compuestos utilizados, lo que produce un cambio de propiedades del material de conducto a aislante, según explica el artículo fuente.
La repercusión
Nada pequeña revolución provoca una noticia como esta, pues la electrónica, la industria de la informática y la de los semiconductores, específicamente, le deben la última generación en materia de fabricación al silicio, que ha resultado ser un material limitado en sus propiedades pero flexible en su accesibilidad. Sin embargo la rueda tiene que seguir girando y la evolución es un destino que resulta impostergable en un contexto tecnológico cuyas ideas se ven limitadas por el acceso a la materia prima para realizarlas. Esto sucede especialmente con el grafeno, un material que ha sido nominado a la estatura de material de Dios, y que, con este avance fundamental en su consecución física en cualquier laboratorio del mundo, a bajos costos, cada vez se transforma en una realidad terrenal que seguramente nos dará muchas satisfacciones.
